氮化硅陶瓷粉體制備有很多方法，簡(jiǎn)單介紹下硅粉直接氮化法和SiO2還原氮化法

硅粉直接氮化法，該方法采用化學(xué)純的硅粉（分析純：95%以上）在NH3，N2+H2或N2氣氛中直接與氮反應(yīng)實(shí)現(xiàn)，其反應(yīng)方程式如下：硅粉直接氮化合成Si3N4微細(xì)粉的*點(diǎn)是工藝流程簡(jiǎn)單，成本低缺點(diǎn)是該方法反應(yīng)慢需較高的反應(yīng)溫度和較長(zhǎng)的反應(yīng)時(shí)間，制備的Si3N4粒徑分布較寬，需要進(jìn)一步經(jīng)過粉碎、磨細(xì)和純化才能達(dá)到質(zhì)量要求。

SiO2還原氮化法，將SiO2的細(xì)粉與碳粉混合后，通過熱還原首先生成SiO，然后SiO再被氮化生成塊狀的Si3N4總的化學(xué)反應(yīng)式為：SiO2還原氮化法的特點(diǎn)是原料來源豐富，反應(yīng)產(chǎn)物是疏松粉末，與硅粉氮化產(chǎn)物不需要進(jìn)行粉碎處理，從而避免了雜質(zhì)的重新引入，所以用該法制得Si3N4粉末粒型規(guī)整，粒度分布窄。